一、硅晶提純技術？

工業制取高純單晶硅主要采用以下方法：

①首先由石英砂和焦炭在電弧爐中制取純度較低的粗硅

SiO2+2C==(3273K)Si+2CO↑

②然后將粗硅轉化為有揮發性并易提純的四氯化硅或三氯氫硅

Si+2Cl2==（723~773K）SiCl4

Si+3HCl==(523~573K)SiHCl3+H2↑

③再用精餾法提純SiCl4或SiHCl3,在電爐中用氫氣還原,得到純度較高的硅

SiCl4+2H2==(加熱)Si+4HCl

④最后我們用區域熔融法進一步提純并制成高純單晶硅

二、高純氯化氫與六氟化硫有什么用途和作用？

化學級:99.9%的純度，主要用于醫藥中間體，農藥中間體、染料中間體、催化劑、食品與飼料添加劑、化學試劑及膠片顯影劑添加劑等精細化學品的合成晌燃。電子級:99.999%純度，總雜質含量小于5ppm，并經國內外多家半導體重點企業連續大量在單晶硅片氣相拋光銀爛和外延基座腐蝕工藝中廣泛使用，產品效果十分明顯，主要用于大規模集成電路生產中，單晶硅片氣相拋光，外延基座腐蝕，金屬表面處理，硬質合金生產。六氟化硫氣體是一種無色、無臭、無毒和無腐蝕性的化合物。在常溫常態下呈氣體，為不燃體，是化學穩定性最好的非金屬氧化物。由于六氟化硫氣體具有優良的化學熱穩定性，在保證純度的情況下，500度溫度下也不會被分解。由具有優良的絕緣性和減弧能力，即使在電弧下發生瞬間分解、電離，但在電弧削減后也能很迅速的回復原有的穩定狀態，故利用他的高度化學穩定性和出色的電器絕緣特性，廣泛的利用電氣工業和超高壓絕緣材料。此外它還具有傳熱系數大，冷卻效果好的特點。六氟化硫氣體廣泛用于高壓，中壓電氣設備的絕緣材料和減弧介質；金屬冶煉制造工藝的防氧化劑，氣象示蹤實驗和示蹤劑，制宴搏虛冷工藝的制冷劑和熱載體。在醫療上用于X一射線裝置的絕緣體。還可用于制造單晶硅以及基礎理論科學研究等。淄博迪嘉是地區最專業的供應基地。

三、為什么氯化氫氣體得到氫遷移產物

氣體中的氫為了可燃性而被添加到氯化物中，形成高純度氣體和高純度氣體。由于氫氣是非常易燃的氣體帆嘩，在空氣中的燃燒體積分數為4%至75%。

如果氫氣與濃度為4%至74%的空氣混合，或者氫氣與濃度為5%至95%的氯混合，則屬于易燃易爆氣體，在熱、陽光的刺激下極易爆炸。 氫氣的燃點為500C，純氫氣和氧氣的混合物在燃燒時發出紫外線。從這個鋒歷意義上說，去除氣體中的氫是非常重要的。

由于高純度比空氣輕，氫火焰有迅速上升的趨勢，銀轎搜其危害小于碳氫化合物燃燒的危害。氫與所有的氧化元素反應，室溫下氫與氯自發反應。氫和氟在暗處混合時會爆炸，產生潛在危險的酸性高純度氣體和氟化氫。

氣體得到氫消敗含遷移產物，氣體拿笑中的氫為了可燃性而被添加到氯化物中,形成高純度氣體枯塵和高純度氣體。由于氫氣是非常易燃的氣體,在空氣中的燃燒體積分數為4%至75

純水喊虛中,存在著電離平衡：

H2O H+ + OH-

加入氣體后,H+增多,平衡向左移動,使水是電離程度減小,由水電離出來的氫離子和氫氧根離子的濃度一直相等.

當溶液的PH=3時,c(H+)=10^-3 mol/L,由水的離子積常數：Ksp = c(H+)*c(OH-)=10^-14 所以,

c(OH-)=10^-11mol/L,鹽酸溶鄭巧燃液中的氫氧根離子是寬亂由水電離產生的,

所以此時由水本身電離出的氫離子的濃度=c(OH-)=10^-11 mol/L

標簽：氯化氫遷移產物